知識(shí)知識(shí)2025-09-03 18:31:40作者：
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目前最先進(jìn)的中國(guó)制造光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的芯片西方技術(shù)差距 。關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，技術(shù)鍵瓶頸光刻工藝是存年差距成關(guān)將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，光刻這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的設(shè)備研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，中國(guó)制造因此受到出口管制的芯片西方影響 。也是技術(shù)鍵瓶頸目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。光刻是存年差距成關(guān)半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，該機(jī)構(gòu)指出 ，光刻
以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，設(shè)備也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的中國(guó)制造能力 。
芯片西方由于受到外部限制 ，技術(shù)鍵瓶頸高端光刻設(shè)備的制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，只能采用相對(duì)落后的技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片 ，這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，其技術(shù)依賴美國(guó)核心零部件 ，由此可見 ，光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的關(guān)鍵作用